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平面磨的运动轨迹
平面磨的运动轨迹
研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究∗
2018年6月1日 摘要:针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题ꎬ引入了无理转速比概念ꎬ以进一步提升研 磨加工均匀性ꎮ建立了定偏心主驱动式和直线 2017年9月7日 建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的样机平台上开展了研磨实 XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 2023年12月8日 为了在自由磨料研磨过程中实现 MPCVD（微波等离子化学气相沉积）多晶金刚石晶片的卓越表面形状精度，本研究采用了基于旋转摆动驱动的平面研磨。这项研究的关键在 基于回转摆动驱动的平面研磨磨粒轨迹仿真与实验研究 推导了单颗磨粒相对工件的运动方程,并利用Matlab软件进行了单颗磨粒运动轨迹仿真,研究了磨粒运动轨迹形态的影响因素,定义了平面研磨轨迹均匀性的概念,建立了磨粒分布,被选考察区域等 UNIPOL802平面研磨机研磨轨迹的研究 百度学术
无理数转速比下的平面研磨轨迹均匀性研究百度文库
【摘 要】平面研磨过程中磨粒与工件的相对运动轨迹分布对工件表面质量有重要影响针对有理数转速比下的研磨加工过程中磨粒轨迹重复的问题,对磨粒相对工件的运动轨迹进行了研究,分析 2023年12月24日 为了提高摆动固定磨料平面研磨(SFAPL)的表面精度，本文研究了工件摆动方式对研磨均匀性的影响。根据曲柄摇杆机构的运动学原理，采用坐标变换方法建立了SFAPL的运 摆动固定磨料平面研磨的运动学和轨迹分析：摆动方式对研磨 摘要： 针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高,研磨抛光均匀性不足的问题,引入了无理转速比概念,以进一步提升研磨加工均匀性建立了定偏心主驱动式和直线摆动驱动式下的轨迹 研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究 百度学术【摘 要】针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题,引入了无理转速比概念,以进一步提升研磨加工均匀性建立了定偏心主驱动式和直线摆动驱动式下的 研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究百度文库
XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 百度学术
针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,XY联动轨 2018年5月12日 摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律，建立运动轨迹模型，用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明：偏摆幅度和偏摆角度对轨 偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究2019年9月17日 平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究pdf,平面抛光 中磨粒运动轨迹仿真研究 口 沈晓安 浙江工业大学 浙西分校 浙江衢州 摘 要：对修整环形抛光机平面抛光过程进行了运动分析，给 出了抛光垫上某一点相对ffiL件的速度矢量与轨迹方 程。通过对相对速度的讨论发现，当抛光垫与试件具有相同的角 平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究pdf 3页 VIP 原创力文档本文以国内广泛使用的45号钢切片为试验试件,以UNIPOL802平面研磨机为试验平台,运用计算机模拟仿真分析和试验验证的方法,从磨粒运动轨迹的角度着手,重点研究了平面研磨加工时工件转速及加工表面质量的影响因素,主要内容如下: 对平面研磨技术基础概念UNIPOL802平面研磨机研磨轨迹的研究 百度学术
第3章 常见表面加工方法3平面加工百度文库
图59 工件8字形运动轨迹 八、平面加工方案的 选择 七、研磨平面 研磨也是平面的光整加工方法之一，平面研磨能获 得和高的精度和很小的表面粗糙度。研磨后两平面间的 尺 寸 精 度 可 达 IT5~IT3 ， 表 面 粗 糙 度 Ra 值 可 达 01~0008μ m，平面度和直线度 研磨加工的运动特点及其运动轨迹手工研磨的运动轨迹 ，一般采用直线、摆线、螺旋线和仿“8”字形等几种。不论哪一种轨迹的研磨运动，其共同特点是工件的被加工面与研具工作面做相密合的平行运动。这样的研磨运动既能获得比较理想的研磨效果 研磨加工的运动特点及其运动轨迹 百度文库2012年6月23日 第 卷第 期 年 月大 连 理 工 大 学 学 报Journal of Dalian University of TechnologyVol No J ul 文章编号 收稿日期 修回日期 作者简介 吴宏基 男副教授 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析吴 宏 基 曹 利 新 刘 健 郭 丽 莎大连理工大学 机械工程学院辽宁 大连 摘要 分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 机械工程论文【摘 要】针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题,引入了无理转速比概念,以进一步提升研磨加工均匀性建立了定偏心主驱动式和直线摆动驱动式下的轨迹数学模型,通过Matlab进行了运动学仿真,对两种驱动方式和不同转速比研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究百度文库
平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究 豆丁网
2016年4月29日 平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究 !沈晓安 浙江工业大学浙西分校浙江衢州"!4### 摘要+对修整环形抛光机平面抛光过程进行了运动分析，给出了抛光垫上某一点相对于试件的速度矢量与轨迹方 程。通过对相对速度的讨论发现，当抛光垫与 2020年10月23日 2平面式研磨机研磨运动的轨迹 分析（一）概述运动是实现平面研磨加工的充要条件。通过运动使得工件和磨具之间相对摩擦，在摩擦过程中实现磨粒切削、摩擦、物理、化学反应等，从而实现被加工材料的去除，达到研磨加工的目的和要求 研磨机研磨运动的分析 豆丁网双面抛光加工运动是自转运动与公转运动的合 成运动 ,图 1 为双面抛光设备的运动简图 ,待加工工 件被放在行星轮中 ,被固定在上抛光盘和下抛光盘 之间 ,在中心轮与外圈齿轮的共同作用下 ,行星轮围 绕中心轮做公转运动 ,同时做自转运动 ,因此 ,工件 在行星轮中的双面抛光运动的数学建模及轨迹优化 百度文库2005年9月8日 实现硅片全局平面化的 主流技术[1～3] 尽管CMP 被 认为是进行硅片平坦化、获得超光滑无损伤表面的 型精度要求也越来越高,基于磨粒运动轨迹的 大尺 寸硅片(300mm 以上) CMP 机理研究还未见文献报 导,而磨粒在硅片表面的运动轨迹不仅最能反映 ULSI 制造中硅片化学机械抛光的运动机理
行星式平面研磨机研抛运动轨迹解析与类型 CSDN文库
2024年8月12日 轨迹曲线的形状不仅与研磨盘的磨损有关，还直接影响到工件的平面度、表面粗糙度以及材料去除率。过去的研究表明，工件的运动轨迹对表面质量和纹理方向有显著影响。例如，德国学者的实验发现，研磨轨迹和磨粒的方向会直接影响工件的最终表面特性。2015年11月18日 平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究口沈晓安激茳王照大学囊嚣分校瀵篷黉髑摘要：对修整环形抛光机平面抛光过猩进行了运动分析，给出了抛光垫上策一点相对于试件的速度矢量与轨迹方程。通过砖搬砖速度的讨论发现，誊糖光垫与试锋吴有稠筠酶鸯速度鲢，有载于试传乎番度的提高。平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究 道客巴巴生成砂轮上磨粒位置及运动轨迹 ，可以利用其来生成工件表面形貌 首页 源码下载 仿真计算 一般算法 智能算法 kalman滤波进行目标运动轨迹的跟 运动 轨迹跟踪滤波算法 机器人运动和行走仿真，实现既定的运动 2Drobot二维机器人上楼梯运动的 生成砂轮上磨粒位置及运动轨迹 Matlab在线 matlabol 2023年12月8日 为了在自由磨料研磨过程中实现 MPCVD（微波等离子化学气相沉积）多晶金刚石晶片的卓越表面形状精度，本研究采用了基于旋转摆动驱动的平面研磨。这项研究的关键在于建立一个综合运动学模型，仔细研究磨料颗粒的运动行为，并探讨参数对磨料轨迹均匀性的影响。基于回转摆动驱动的平面研磨磨粒轨迹仿真与实验研究
双面研磨运动轨迹模拟与分析 百度文库
双面研磨运动轨迹模拟与分析12行星轮运动轨迹方程在垂直于研磨机主轴的平面内，研磨盘、内齿圈和外齿圈共同的旋转轴为O，行星轮自转旋转轴为。O与间的距离为内齿圈半径R与行星轮半径r之和，即R+r。 2013年1月8日 论文:从运动学和几何学原理出发，通过将复杂的运动简化为：在中心距一定的条件下，夹具绕研磨盘中心轴的回转运动及夹具自身的回转运动，对工件上一点相对於研磨盘的运动轨迹及瞬时速度进行了分析计算，并编制了相应的计算软件，以图形的形式显示出运动轨迹曲线及瞬时速度的大小，为 单面研磨机研磨运动轨迹及速度分析 文章 佳工网 2021年8月19日 运动的引入，将改变磨粒的运动轨迹和速度分布形 态。首先采用矢量方法，在直角坐标系下推导了偏 摆运动下的磨粒运动方程和速度方程。然后利用 Matlab 软件进行数值模拟，对比分析了定偏心和无 理偏摆式两种驱动方式下的磨粒轨迹变化和速度变 化情况。232241 20191456 肖燏婷摘要： 磨粒加工技术,作为提高工件表面微观几何精度的工艺,一直在工业发展中占据着重要地位与传统磨粒加工技术相比,端面磨削在加工薄片类,盘类工件领域,自动化程度高,加工效率高但端面磨削工件表面仍存在材料去除不均匀以及平面度精度偏低等问题,加工过程中的磨削力与磨削热是影响工 基于磨粒运动轨迹的端面磨削热力耦合过程分析 百度学术
unipol802平面研磨机研磨轨迹的研究 豆丁网
2015年10月26日 本文以国内广泛使用的45号钢切片为试验试件，以UNIPOL．802平面研磨机为试验平 台，运用计算机模拟仿真分析和试验验证的方法，从磨粒运动轨迹的角度着手，重点研究了 平面研磨力n－F时工件转速及加工表面质量的影响因素，主要内容摘要： 对修整环形抛光机平面抛光过程进行了运动分析,给出了抛光垫上某一点相对于试件的速度矢量与 轨迹方程通过对相对速度的讨论发现,当抛光垫与试件具有相同的角速度时,有利于试件平面度的提高详细讨论了抛光垫上不同位置点的相对轨迹,这些轨迹可 以视为试件表面形成的划痕重点 平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究 百度学术2019年3月17日 在运动轨迹方程建立过程中直接简化行星的运动轨迹为工件的运动轨迹。 图 2 研磨平面轨迹图 12 行星轮运动轨迹方程 在垂直于研磨机主轴的平面内，研磨盘、内齿圈和外齿圈共同的旋转轴为 O，行星轮自转旋转轴为 1O 。双面研磨运动轨迹模拟与分析 道客巴巴2019年9月2日 《半导体光电017年6月第38卷第3期杨晓京等：平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹研究DOI：10．16818／j．issnl001—5868．017．03．011平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹研究杨晓京，李明昆明理工大学机电工程学院，昆明摘要：为提高平面光学元件的加工质量和效率，理解元件与抛光盘之间的相对 平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹研究 道客巴巴
研磨机的研磨轨迹可以分为那几种？ 磨抛技术 深圳市方达
2017年12月26日 研磨机在研磨时运动轨迹一般来说可以分为以下几种： 1平面的研磨轨迹：陶瓷研磨机作平面研磨时要求工件表面各点的滑动速度和滑动路程相等。通过通常只有工平行移动的情况下才有可能使磨料的运动轨迹具有同样的形式，但其轨迹不重复的前提下，就能达到均匀磨削的 平面磨床是磨床的一种。主要用砂轮旋转研磨工件以使其可达到要求的平整度，根据工作台形状可分为矩形工作台和圆形工作台两种，矩形工作台平面磨床的主参数为工作台宽度及长度，圆形工作台的主参数为工作台面直径。根据轴类的不同可分为卧轴及立轴磨床之分。 如M7432立轴圆台平面 平面磨床百度百科2023年12月24日 为了提高摆动固定磨料平面研磨(SFAPL)的表面精度，本文研究了工件摆动方式对研磨均匀性的影响。根据曲柄摇杆机构的运动学原理，采用坐标变换方法建立了SFAPL的运动学模型。采用数值模拟方法研究了不同摆动模式下工件表面的磨粒轨迹和ASD。摆动固定磨料平面研磨的运动学和轨迹分析：摆动方式对研磨 2017年8月5日 一 磨抛光运动机构是常见的一种．其运动参数便于调 整、加工效率高．并可进行单面和双面加工。近年 来，国内外学者对平面研磨抛光的运动轨迹、研磨 机理等问题进行了大量研究【“】，德国学者 【l】通过 大量的试验研究表明：工件相对于 基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析PDF
XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验
2017年9月7日 摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题，开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的样机平台上开展了研磨 2017年4月12日 为分析晶片抛光过程中，转动比 α 和摆动比 β 对磨粒轨迹分布均匀性的影响，建立晶片与抛光垫的相对速度模型及磨粒在晶片表面的运动轨迹模型，并分析晶片相对抛光垫的速度的分布规律、统计磨粒轨迹密度。结果表明：晶片转速与抛光垫转速一致时，其对抛光垫的相对速度大小一致；晶片随 激光晶片抛光中磨粒运动轨迹分布均匀性分析2024年6月20日 研磨运动轨迹与研磨运动速度的基本要求，在平面研磨机设备加工中，会常用和谐研磨机的运功轨迹以及运动速度来进行加工，在研磨高精度的工件表面时，主要是以单面研磨机的运动轨迹以及运动速度来进行，主要原因在于:浅谈平面研磨机的研磨运动对工件的影响深圳市海德精密机械 2019年9月17日 平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究pdf,平面抛光 中磨粒运动轨迹仿真研究 口 沈晓安 浙江工业大学 浙西分校 浙江衢州 摘 要：对修整环形抛光机平面抛光过程进行了运动分析，给 出了抛光垫上某一点相对ffiL件的速度矢量与轨迹方 程。通过对相对速度的讨论发现，当抛光垫与试件具有相同的角 平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究pdf 3页 VIP 原创力文档
UNIPOL802平面研磨机研磨轨迹的研究 百度学术
本文以国内广泛使用的45号钢切片为试验试件,以UNIPOL802平面研磨机为试验平台,运用计算机模拟仿真分析和试验验证的方法,从磨粒运动轨迹的角度着手,重点研究了平面研磨加工时工件转速及加工表面质量的影响因素,主要内容如下: 对平面研磨技术基础概念图59 工件8字形运动轨迹 八、平面加工方案的 选择 七、研磨平面 研磨也是平面的光整加工方法之一，平面研磨能获 得和高的精度和很小的表面粗糙度。研磨后两平面间的 尺 寸 精 度 可 达 IT5~IT3 ， 表 面 粗 糙 度 Ra 值 可 达 01~0008μ m，平面度和直线度 第3章 常见表面加工方法3平面加工百度文库研磨加工的运动特点及其运动轨迹手工研磨的运动轨迹 ，一般采用直线、摆线、螺旋线和仿“8”字形等几种。不论哪一种轨迹的研磨运动，其共同特点是工件的被加工面与研具工作面做相密合的平行运动。这样的研磨运动既能获得比较理想的研磨效果 研磨加工的运动特点及其运动轨迹 百度文库2012年6月23日 第 卷第 期 年 月大 连 理 工 大 学 学 报Journal of Dalian University of TechnologyVol No J ul 文章编号 收稿日期 修回日期 作者简介 吴宏基 男副教授 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析吴 宏 基 曹 利 新 刘 健 郭 丽 莎大连理工大学 机械工程学院辽宁 大连 摘要 分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 机械工程论文
研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究百度文库
【摘 要】针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题,引入了无理转速比概念,以进一步提升研磨加工均匀性建立了定偏心主驱动式和直线摆动驱动式下的轨迹数学模型,通过Matlab进行了运动学仿真,对两种驱动方式和不同转速比2016年4月29日 平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究 !沈晓安 浙江工业大学浙西分校浙江衢州"!4### 摘要+对修整环形抛光机平面抛光过程进行了运动分析，给出了抛光垫上某一点相对于试件的速度矢量与轨迹方 程。通过对相对速度的讨论发现，当抛光垫与 平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究 豆丁网2020年10月23日 2平面式研磨机研磨运动的轨迹 分析（一）概述运动是实现平面研磨加工的充要条件。通过运动使得工件和磨具之间相对摩擦，在摩擦过程中实现磨粒切削、摩擦、物理、化学反应等，从而实现被加工材料的去除，达到研磨加工的目的和要求 研磨机研磨运动的分析 豆丁网双面抛光加工运动是自转运动与公转运动的合 成运动 ,图 1 为双面抛光设备的运动简图 ,待加工工 件被放在行星轮中 ,被固定在上抛光盘和下抛光盘 之间 ,在中心轮与外圈齿轮的共同作用下 ,行星轮围 绕中心轮做公转运动 ,同时做自转运动 ,因此 ,工件 在行星轮中的双面抛光运动的数学建模及轨迹优化 百度文库